規格・用途：in H2O, 99.999% trace metals basis純度：37 wt. %CAS RN：---分子式：HCl分子量：---

規格・用途：Semiconductor grade (Honeywell 17863)純度：≧32%CAS RN：7647-01-0分子式：---分子量：36.46

規格・用途：Semiconductor grade (Honeywell 17823)純度：37%CAS RN：7647-01-0分子式：---分子量：36.46

規格・用途：for HPLC and Spectrophotometry純度：---CAS RN：---分子式：---分子量：---

規格・用途：ACS Reagent, meets ASTM Type II specifications純度：---CAS RN：7732-18-5分子式：---分子量：---

規格・用途：ACS Reagent, meets ASTM Type II specifications純度：---CAS RN：7732-18-5分子式：---分子量：---

規格・用途：purum p.a., fuming, packed in coated, shock- and leak-protected glass bottle純度：≧99% (T)CAS RN：---分子式：HNO3分子量：---

規格・用途：Puriss.純度：99-100%CAS RN：64-19-7分子式：CH3CO2H分子量：---

規格・用途：Puriss.純度：99-100%CAS RN：64-19-7分子式：CH3CO2H分子量：---

規格・用途：Puriss.純度：99-100%CAS RN：64-19-7分子式：CH3CO2H分子量：---

規格・用途：---純度：≧99.99% trace metals basisCAS RN：---分子式：CH3CO2H分子量：---

規格・用途：---純度：≧99.99% trace metals basisCAS RN：---分子式：CH3CO2H分子量：---

規格・用途：---純度：≧99.99% trace metals basisCAS RN：---分子式：CH3CO2H分子量：---

規格・用途：meets analytical specification of Ph. Eur., BP, USP純度：99.0-100.5%, 99.0-101.0% (calc. on dry substance)CAS RN：57-13-6分子式：---分子量：---

規格・用途：puriss. p.a., ACS reagent, reag. Ph. Eur.純度：≧99.5%CAS RN：57-13-6分子式：---分子量：---

規格・用途：puriss. p.a., ACS reagent, reag. Ph. Eur.純度：≧99.5%CAS RN：57-13-6分子式：---分子量：---

規格・用途：puriss. p.a., ACS reagent, reag. Ph. Eur.純度：≧99.5%CAS RN：57-13-6分子式：---分子量：---

規格・用途：Semiconductor grade (Honeywell 17831)純度：95-97%CAS RN：---分子式：---分子量：98.08

規格・用途：Reagent Grade純度：≧99%CAS RN：---分子式：CH3(CH2)8CH3分子量：---

規格・用途：Reagent Grade純度：≧99%CAS RN：---分子式：CH3(CH2)8CH3分子量：---