東京化成工業

トリメチル[3-(トリメトキシシリル)プロピル]アンモニウムクロリド (約50%メタノール溶液) (10g)

(2R,3R)-(-)-2,3-ビス(ジフェニルホスフィノ)ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-5-エン (100mg)

(2S,3S)-(+)-2,3-ビス(ジフェニルホスフィノ)ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-5-エン (100mg)

(R)-(+)-5,5',6,6',7,7',8,8'-オクタヒドロ-1,1'-ビ-2-ナフトール (1g)

(S)-(-)-5,5',6,6',7,7',8,8'-オクタヒドロ-1,1'-ビ-2-ナフトール (1g)

1,1,1,5,5,5-ヘキサメチル-3-[(トリメチルシリル)オキシ]-3-ビニルトリシロキサン (25mL)

2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン-5-スルホン酸 (約10%イソプロピルアルコール含む) (25g)

2-フェニル-5-(4,4,5,5-テトラメチル-1,3,2-ジオキサボロラン-2-イル)ピリジン (1g)

6',6''-ジ(ピリジン-2-イル)-2,2':4',4'':2'',2'''-クアテルピリジン (1g)

2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4,6-ビス(1-メチル-1-フェニルエチル)フェノール (250g)

2-[2-ヒドロキシ-5-[2-(メタクリロイルオキシ)エチル]フェニル]-2H-ベンゾトリアゾール (25g)

N,N-ジメチル-N'-(3-チオキソ-3H-1,2,4-ジチアゾール-5-イル)ホルムイミドアミド 硫化剤 (5g)

N,N-ジメチル-N'-(3-チオキソ-3H-1,2,4-ジチアゾール-5-イル)ホルムイミドアミド 硫化剤 (100g)

N,N-ジメチル-N'-(3-チオキソ-3H-1,2,4-ジチアゾール-5-イル)ホルムイミドアミド (25g)

(+)-4,5-ビス[ヒドロキシ(ジフェニル)メチル]-2-メチル-2-フェニル-1,3-ジオキソラン (1g)

(S)-1-(ジフェニルホスフィノ)-2-[(S)-4-イソプロピルオキサゾリン-2-イル]フェロセン (1g)

2-(2,4-ジヒドロキシフェニル)-4,6-ビス(2,4-ジメチルフェニル)-1,3,5-トリアジン (25g)

2,6-ビス[(2R,4S,5S)-1-ベンジル-4,5-ジフェニルイミダゾリジン-2-イル]ピリジン (50mg)

2',7'-ジブロモスピロ[シクロペンタ[2,1-b:3,4-b']ジピリジン-5,9'-フルオレン] (500mg)

2-[(6-オキシド-6H-ジベンゾ[c,e][1,2]オキサホスフィニン-6-イル)メチル]こはく酸 (1g)